重啟SHEIN X項目，SHEIN嘗試擺脫抄襲困境

多招設計師，能讓SHEIN少挨罵嗎？

近日，SHEIN方面表示，希望繼續(xù)支持年輕時裝設計師，將于今年在全球范圍內尋找1000名設計師和藝術家加入SHEIN X。

SHEIN承諾，招募到的新設計師將有機會參與獨家活動，并進行全球商業(yè)考察交流，同時還會參與接下來與Graduate Fashion Foundation(GFF)合作的比賽，獲勝者會在明年6月參加由SHEIN在巴黎舉辦的時裝秀。

據官方介紹，SHEIN X項目為設計師提供從產品開發(fā)到生產制造、營銷以及供應鏈物流等環(huán)節(jié)在內的全程賦能，不僅通過指導課程、大師班和專門的網站為新興的設計師提高指導，還資助他們的服裝生產，后續(xù)銷售也會向他們支付傭金，并保留對其設計的權利。

項目啟動至今，SHEIN已經向SHEIN X 投入了超過5500萬美元，其中包括537萬美元的傭金，為來自20多個國家的近3000名設計師提供了支持，成功上市了25000款產品。

很明顯，當初啟動SHEIN X計劃就是為了跟上千變萬化的快時尚趨勢，也在這兩年里投入頗大，如今選擇再次重啟招募計劃，自然也和此有關。

一直以來，SHEIN身上最突出的標簽就是它那驚人的上新能力。曾有數據顯示，SHEIN全年上新超10萬款，平均每月上新萬余款，兩個月內就可以趕上Zara全年的上新量。

低廉的價格和豐富的品類很快讓SHEIN席卷海外時尚市場，比價網站money.co.uk的最新數據顯示，目前SHEIN已經取代了Zara去年的榜首位置，憑借在113個國家和地區(qū)中搜索量的名列前茅，成為了全球最受歡迎的時尚品牌。

但龐大的上新量也意味著，SHEIN需要準確追隨時尚潮流，源源不斷地生產出樣式各異、色彩豐富的服飾，而對上新頻率的極致要求卻又壓縮了其在前期設計的時間，最終導致SHEIN陷入了被外界質疑抄襲的漩渦之中。

盡管SHEIN方面一直強調，公司無意侵權，會嚴肅對待所有侵權事件，并嚴格要求供應商遵守公司政策證明其產品不侵犯第三方知識產權，審查流程也將趨于嚴格，但這未能有效平息SHEIN的抄襲風波。

自2021年初以來，外界對其商標侵權的指控從未停止，在美國就至少遭到了40起訴訟，社交平臺上怒斥SHEIN剽竊自己設計創(chuàng)意的獨立設計師更是不在少數。

因此SHEIN這次聲勢浩大地重啟SHEIN X，既是為了更好地追趕流行趨勢，更是為了應對外界的抄襲指控，通過在前期給予設計師更加充裕的時間，緩解生產壓力，以此避免產品侵權情況再度發(fā)生。畢竟，SHEIN也不想因為原創(chuàng)跟不上而丟掉好不容易才得到的快時尚老大地位。

只不過，守住第一向來都要比得到第一更難，SHEIN是否能夠憑借SHEIN X計劃，打造出專屬于自己的設計師隊伍，撕掉抄襲標簽，妥善解決設計問題，用原創(chuàng)維系現有的上新速度，將直接關系到其后續(xù)海外消費者的購買態(tài)度。

更重要的是，這其實也是所有快時尚服裝產業(yè)在發(fā)展過程中都要面對的問題，在經過前期規(guī)模的發(fā)展擴大之后，比低價不再是好的出路，唯有形成自己的設計風格，才能形成真正的品牌護城河，在競爭中立于不敗之地。